薄膜
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设备名称：薄膜溅射沉积系统设备型号：ATC 2200-V厂 家：AJA设备编号：16041495设备分类：薄膜设备功能简介：可沉积金属、介质、透明导电氧化物、半导体、磁性材料、有机…
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设备名称：5靶共溅射系统设备型号：Orion 5厂 家：AJA设备编号：15016429设备分类：薄膜设备功能简介：多层膜磁控溅射沉积，溅射材料为化合物、氧化物等；设备性能指标：…
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设备名称：多靶位磁控溅射系统设备型号：PVD 75厂 家：Kurt J. Lesker Company设备编号：21012328设备分类：薄膜设备功能简介：可对多种材料进行溅射，与Lab18薄膜沉积系…
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设备名称：LAB18薄膜沉积系统设备型号：KJLC Lab18厂 家：Kurt J. Lesker Company设备编号：12028282设备分类：薄膜设备功能简介：金属及氧化物材料磁控溅射：包括Pt、Ti…
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设备名称：多腔室物理气相沉积系统Polaris G620设备型号：Polaris厂 家：北方华创设备编号：21012470设备分类：薄膜设备功能简介：主要在8英寸样品上生长薄膜；可进行烘…
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设备名称：装入取出式等离子化学气相沉积设备设备型号：CC-200Cz厂 家：ULVAC设备编号：22044759设备分类：薄膜设备功能简介：紧凑易用型PECVD，设备采用13.56MHz高频等…
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设备名称：电感耦合等离子增强化学气相沉积系统设备型号：SI 500 D厂 家：SENTECH设备编号：22044761设备分类：薄膜设备功能简介：设备使用的平面三螺旋天线（PTSA）源是…
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设备名称：PICOSUN原子层沉积系统设备型号：R200 Advanced厂 家：PICOSUN设备编号：16041497设备分类：薄膜设备功能简介：可通过原子层热沉积/等离子生长的方式进行Al2O3…
