薄膜
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设备名称：BENEQ原子层沉积系统设备型号：TFS200-106厂 家：BENEQ设备编号：09016504设备分类：薄膜设备功能简介：可通过原子层热沉积的方式进行Al2O3、HfO2、ZrO2、HZO…
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设备名称：8"氧化LPCVD系统设备型号：HORIC L200厂 家：北方华创微电子装备有限公司设备编号：25027649设备分类：薄膜设备功能简介：设备为LPCVD系统，可处理8、6、4英寸…
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设备名称：国产溅射台设备型号：JS-3厂 家：中科院微电子中心设备编号：02011815设备分类：薄膜设备功能简介：本设备为半导体器件中溅射设备。设备性能指标：1.金属材料…
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设备名称：磁控溅射镀膜机设备型号：MSP-3200T厂 家：创世威纳科技公司设备编号：13001328设备分类：薄膜设备功能简介：主要用于溅射各类金属和氧化物薄膜，本设备有两个…
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设备名称：高真空电子束蒸发系统设备型号：KJLC PVD75厂 家：KurtJ.LeskerCompany设备编号：14030917设备分类：薄膜设备功能简介：电子束蒸发系统，真空度可达到1E-8Torr…
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设备名称：电子束蒸发薄膜沉积系统设备型号：KJLCAXXIS厂 家：KurtJ.LeskerCompany设备编号：08017390设备分类：薄膜设备功能简介：电子束蒸发沉积系统，目前可蒸发Al和N…
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设备名称：THERMCO氧化LPCVD设备型号：X2660厂 家：THERMC SYSTEMS设备编号：21014796设备分类：薄膜设备功能简介：1、 设备采用干氧氧化、湿氧和水汽氧化生长SiO2薄膜；…
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设备名称：氢气退火炉设备型号：OTF-1200X-5S-3Z-103G厂 家：合肥科晶设备编号：设备分类：薄膜设备功能简介：氢气管式炉可消除样品铝硅之间较大的接触电阻以获得良好的…
