设备名称：薄膜溅射沉积系统

设备型号：ATC 2200-V

厂 家：AJA

设备编号：16041495

设备分类：薄膜

设备功能简介：

可沉积金属、介质、透明导电氧化物、半导体、磁性材料、有机材料、压电材料等，广泛应用于微电子学、光电子学、磁学、自旋电子学、声子学、光学、光子学等领域。

设备性能指标：

8英寸硅片成膜均匀性：片内±2%以内，片间±2%以内。

设备物理位置：

微纳加工中心主超净间104实验室

设备预约方法：

通过清华大学仪器共享服务平台进行网上预约使用。

工程师联系方式：

窦维治：62781090，douwz@tsinghua.edu.cn