设备名称：5靶共溅射系统

设备型号：Orion 5

厂 家：AJA

设备编号：15016429

设备分类：薄膜

设备功能简介：

多层膜磁控溅射沉积，溅射材料为化合物、氧化物等；

设备性能指标：

1.5个溅射源，共焦溅射；

2.基片4英寸，沉积均匀性优于2.5%；

3.Z轴行程大于50mm；

4.DC单元2个，700-800W，可4路切换；

5.RF单元1个，250-350W，可4路切换；

6.极限真空度≤2X10-7Torr

7.加热温度≥850℃

设备位置：

微纳加工中心主超净间 自强科技楼5101实验室

设备预约方法：

通过清华大学大型仪器共享服务平台在线预约使用

工程师联系方式：

窦维治：13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn

徐海峥：13601173863,peij@tsinghua.edu.cn