薄膜

多腔室物理气相沉积系统Polaris G620

2022-06-02    点击:

设备名称:多腔室物理气相沉积系统Polaris G620

设备型号:Polaris

厂 家:北方华创

设备编号:21012470

设备分类:薄膜

设备功能简介:

主要在8英寸样品上生长薄膜;可进行烘烤,可预清洗不同厚度的SiO2,可生长不同厚度的TiN/HfOx/TaOx,或者生长金属Ir/Al。

设备性能指标:

1、Degas加热均匀性150+/-10℃;

2、PCII刻蚀SiO2约150Å/min,片内与片间均匀性在5%以内;

3、TiN片内与片间电阻均匀性在5%以内;Al片内与片间电阻均匀性在5%以内。

设备物理位置:

微纳加工中心主超净间104实验室

设备预约方法:

通过清华大学仪器共享服务平台在线预约使用。

工程师联系方式:

魏治乾:19801221361,zhiqianwei@tsinghua.edu.cn

备注

8英寸晶圆片,符合污染管理和安全要求。

仅接收委托加工。