刻蚀
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设备名称：ICP刻蚀机-F设备型号：NE-550H(F)厂 家：爱发科设备编号：13015108设备分类：刻蚀设备功能简介：用于介质刻蚀。设备性能指标：1、操作方式：自动化操作；2、刻…
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设备名称：ICP刻蚀机-Cl设备型号：NE-550H(CL)厂 家：爱发科设备编号：13015109设备分类：刻蚀设备功能简介：用于金属刻蚀。设备性能指标：1、操作方式：自动化操作；2、…
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设备名称： 硅深刻蚀系统设备型号： OMEGA LPX RAPIER厂 家：SPTS设备编号：16041492设备分类：刻蚀设备功能简介：基于博世工艺的深硅刻蚀系统，具有高深宽比、高垂直度…
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设备名称：离子束刻蚀机设备型号：Ionfab300厂 家：牛津设备编号：16046524设备分类：刻蚀设备功能简介：用于各种介质、金属刻蚀。设备性能指标：1、 操作方式：自动化操…
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设备名称： XeF₂干法释放刻蚀设备设备型号： Orbis Alpha厂 家：MEMSSTAR Limited设备编号：22019789设备分类：刻蚀设备功能简介：采用二氟化氙（XeF₂）气相干法刻蚀设…
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设备名称：等离子去胶机（ION wave10）设备型号：ION wave10厂 家：PVA TePla设备编号：21013080设备分类：刻蚀设备功能简介：紧凑型、多功能微波等离子处理系统，采用2.…
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设备名称：等离子去胶机（ION40）设备型号：ION40厂 家：PVA TePla设备编号：20027291设备分类：刻蚀设备功能简介：用于半导体、微电子、MEMS和先进封装领域的多功能等离…
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设备名称：FIB聚焦离子束系统设备型号：Helios 5 UC厂 家：Thermo Fisher设备编号：24008576设备分类：表征与分析，刻蚀设备功能简介：该设备是同时具备聚焦离子束和扫描…
