光刻
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设备名称：电子束光刻机设备型号：NB5厂 家：NBL设备编号：16041494设备分类：光刻，表征与分析设备功能简介：扫描电子聚焦束以在被称为抗蚀剂（曝光）的电子敏感膜覆盖…
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设备名称：MA8双面光刻机设备型号：MA/BA8 Gen3厂 家：SUSS设备编号：16041493设备分类：光刻设备功能简介：SUSS MA8光刻机可实现双面对准和接触式曝光功能。主机由计算…
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设备名称： MA8光刻机(LED)设备型号： MA/BA8 Gen4厂 家：SUSS MicroTec Solutions GmbH&C设备编号：25032843设备分类：光刻设备功能简介：主要通过紫外曝光的方式，把掩…
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设备名称： 键合机设备型号： SB8 Gen2厂 家：德国SUSS MicroTec Solutions GmbH&C设备编号：25032844设备分类：光刻设备功能简介：主要用于两个晶圆通过分子间作用力或…
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设备名称：激光直写系统设备型号：DWL66+厂 家：Heidelberg设备编号：17002190设备分类：光刻设备功能简介：激光直写系统是具有高分辨率的图形发生器，适用于光掩膜版制…
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设备名称： 激光直写系统(高精度)设备型号： DWL66+厂 家：海德堡设备编号：25027496设备分类：光刻设备功能简介：一种用于亚微米尺度图形化的高精度光刻设备，可用于光…
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设备名称：飞秒激光三维直写系统设备型号： Photonic Professional GT2厂 家：德国NANOSCIBE设备编号：25032328设备分类：光刻设备功能简介：主要用于光学元件的加工，兼…
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设备名称：光电所光刻机（汞灯）设备型号：URE-2000-35L厂 家：四川光电所设备编号：A18000070设备分类：光刻设备功能简介：光电所光刻机（汞灯）可实现正面对准、接近/…
