设备名称：激光直写系统
设备型号：DWL66+
厂 家：Heidelberg
设备编号：17002190
设备分类：光刻
设备功能简介：
激光直写系统是具有高分辨率的图形发生器，适用于光掩膜版制作和无掩膜直写，是微光学、MEMS、封装和集成电路制造等中非常重要的光刻研究工具。
设备性能指标：
1、可接受最大基板尺寸：9"；
2、有效光刻面积不高于200*200mm2；
3、可接受基材厚度：1～6mm；
4、He－Ne氦氖激光干涉仪分辨率：至少10nm分辨率；
5、激光器波段：405nm；
6、最大能量：300mw；
7、激光读写头参数如下表所示：
| 激光读写头 |
高精度 |
精细 |
普通 |
| 描绘网格或数据分辨率[nm] |
10 |
25 |
50 |
| 套刻对准精度[nm] |
<110 |
<160 |
<250 |
| 最细线宽[µm] |
0.6 |
1.0 |
2.0 |
| 线宽均匀性[nm] |
<70 |
<110 |
<180 |
| 线宽斜边粗糙度[nm] |
<60 |
<90 |
<110 |
| 光绘速度[mm2/min] |
>6 |
>35 |
>145 |
设备物理位置：
微纳加工中心主超净间104实验室
设备预约方法：
通过清华大学大型仪器共享服务平台在线预约使用。
工程师联系方式：
尹长青：62784044-213，hkycq@tsinghua.edu.cn
