刻蚀
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设备名称：离子束刻蚀机设备型号：Ionfab300厂 家：牛津设备编号：16046524设备分类：刻蚀设备功能简介：用于各种介质、金属刻蚀。设备性能指标：1、 操作方式：自动化操…
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设备名称：ICP刻蚀机-F设备型号：NE-550H(F)厂 家：爱发科设备编号：13015108设备分类：刻蚀设备功能简介：用于介质刻蚀。设备性能指标：1、操作方式：自动化操作；2、刻…
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设备名称：ICP刻蚀机-Cl设备型号：NE-550H(CL)厂 家：爱发科设备编号：13015109设备分类：刻蚀设备功能简介：用于金属刻蚀。设备性能指标：1、操作方式：自动化操作；2、…
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设备名称：FIB聚焦离子束系统设备型号：Helios 5 UC厂 家：Thermo Fisher设备编号：A21000028设备分类：表征与分析，刻蚀设备功能简介：该设备是同时具备聚焦离子束和扫…
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设备名称：氦氖镓三束微纳离子显微镜设备型号：Orion NanoFab厂 家：Zeiss设备编号：A21000026设备分类：表征与分析，刻蚀设备功能简介：离子显微镜通过汇聚并控制离子束…
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设备名称：清洗机设备型号：SQX-1506 型清洗机设备编号：20036430设备分类：清洗，刻蚀设备功能简介：清洗机是一种为特定工艺要求而设计的晶片清洗设备，它主要用于半导…
