工艺案例
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设备名称：电子束光刻机设备型号：NB5机台写场拼接精度优于10nm，套刻精度优于10nm。单次曝光制备5nm图形结构
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设备名称：扫描探针显微镜系统设备型号：DIMENSION ICON样品：热氧二氧化硅探针：Scanasyst-air测试模式：Scanasyst in air测试范围：500nm粗糙度：Rq 0.263nm样品表面粗…
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1、镓离子束图形刻蚀工艺案例设备名称：氦氖镓三束微纳离子显微镜设备型号：Orion NanoFab镓离子束图形刻蚀清华校徽图2、镓离子束刻蚀微柱工艺案例设备名称：氦氖镓三束…
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设备名称：匀胶机、热板、光电所光刻机（汞灯）、光电所光刻机（LED）、佳能光刻机、SUSS MA8光刻机正性双层剥离胶光刻工艺形貌
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1、2.5微米线宽 75微米深的硅槽刻蚀工艺案例设备名称：硅深刻蚀系统设备型号：SPTS Omega LPX Rapier2.5微米线宽 75微米深的硅槽刻蚀形貌图2、直径5微米 50微米深小孔的…
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1、激光直写小尺寸图形套刻工艺案例设备名称：激光直写系统设备型号：DWL66+小尺寸图形套刻工艺图2、激光直写灰度曝光工艺案例仪器名称：激光直写系统型号：DWL66+灰度曝…
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设备名称：化学机械抛光设备生产厂家：strasbaugh样品表面：热氧二氧化硅抛光后粗糙度形貌图（Rq≤1nm
