设备名称： 激光直写系统(高精度)

设备型号： DWL66+

厂 家：海德堡

设备编号：25027496

设备分类：光刻

设备功能简介：

一种用于亚微米尺度图形化的高精度光刻设备，可用于光掩膜版制备、各种衬底上激光直写，以及灰阶光刻的先进工艺

设备参数：

1.半导体激光器：能量300mW, 波长405nm

2.四种直写头：CD=0.3μm 、CD=0.6μm 、CD=1 μm 、CD=2 μm

3.灰度曝光模式 ：Levels=255

4.套刻精度：正面±0.5um、背面±1um

5.有效曝光面积： 200mm*200mm

6.样品厚度：≤10mm

设备位置：

微纳加工中心主超净间 自强科技楼5101实验室

设备预约方法：

通过清华大学大型仪器共享服务平台在线预约使用

工程师联系方式：

尹长青：13699221314，hkycq@tsinghua.edu.cn