设备名称：电子束光刻机

设备型号：NB5

厂 家：NBL

设备编号：16041494

设备分类：光刻，表征与分析

设备功能简介：

扫描电子聚焦束以在被称为抗蚀剂（曝光）的电子敏感膜覆盖的表面上绘制自定义形状的实践。电子束改变了抗蚀剂的溶解性，通过将其浸入溶剂中（显影），可以选择性地除去抗蚀剂的已曝光或未曝光区域。与光刻一样，其目的是在抗蚀剂中形成非常小的结构，然后可以通过蚀刻将其转移到衬底材料上。

设备性能指标：

1、加速电压：20-100kV连续可调；

2、曝光束流：0.2-120nA；

3、写场尺寸：100um-1000um边长的正方形区域连续可调；

4、写场拼接精度：优于10nm；

5、套刻精度：优于10nm；

6、最大样品尺寸：直径20cm圆形，厚度小于2mm。

设备物理位置：

微纳加工中心主超净间104实验室

设备预约方法：

在清华大学仪器共享平台进行在线预约使用（用户需经过培训并由主管工程师进行授权）。

工程师联系方式：

韩英：62782076，hanying@mail.tsinghua.edu.cn