薄膜
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设备名称：多靶位磁控溅射系统设备型号：PVD 75厂 家：Kurt J. Lesker Company设备编号：21012328设备分类：薄膜设备功能简介：可对多种材料进行溅射，与Lab18薄膜沉积系…
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设备名称：薄膜溅射沉积系统设备型号：ATC 2200-V厂 家：AJA设备编号：16041495设备分类：薄膜设备功能简介：可沉积金属、介质、透明导电氧化物、半导体、磁性材料、有机…
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设备名称：BENEQ原子层沉积系统设备型号：TFS200-106厂 家：BENEQ设备编号：09016504设备分类：薄膜设备功能简介：可通过原子层热沉积的方式进行Al2O3、HfO2、ZrO2、HZO…
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设备名称：多腔室物理气相沉积系统Polaris G620设备型号：Polaris厂 家：北方华创设备编号：21012470设备分类：薄膜设备功能简介：主要在8英寸样品上生长薄膜；可进行烘…
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设备名称：PICOSUN原子层沉积系统设备型号：R200 Advanced厂 家：PICOSUN设备编号：16041497设备分类：薄膜设备功能简介：可通过原子层热沉积/等离子生长的方式进行Al2O3…
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设备名称：THERMCO氧化LPCVD设备型号：X2660厂 家：THERMC SYSTEMS设备编号：A18000069设备分类：薄膜设备功能简介：1、 设备采用干氧氧化、湿氧和水汽氧化生长SiO2薄膜…
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设备名称：合金炉设备型号：MB-81 厂 家：THERMCO设备编号：11013950设备分类：薄膜设备功能简介：通过在一定温度下，在腔体内通入N2/H2混合气体，达到消除样品铝硅之间…
