设备名称:BENEQ原子层沉积系统
设备型号:TFS200-106
厂 家:BENEQ
设备编号:09016504
设备分类:薄膜
设备功能简介:
可通过原子层热沉积的方式进行Al2O3、HfO2、ZrO2、HZO等高k材料、阻变材料及原位电极材料的制备。
设备性能指标:
1、样品尺寸:8寸及8寸以下兼容
2、生长精度:0.1nm
3、反应温度:25℃~500℃
4、生长方式:热沉积
5、热源2个,冷源3个。
设备物理位置:
微纳加工中心主超净间104实验室
设备预约方法:
通过清华大学仪器共享服务平台在线预约使用。
工程师联系方式:
曹秉军:62784044-220,caobj@tsinghua.edu.cn
备注:
1、样品不能带有金、银、铜。
2、样品上不能有挥发性材料。
3、样品上不能有有机物。
4、样品需清洗干净才可以进入腔体。