薄膜

BENEQ原子层沉积系统

2022-06-02    点击:

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设备名称:BENEQ原子层沉积系统

设备型号:TFS200-106

厂 家:BENEQ

设备编号:09016504

设备分类:薄膜

设备功能简介:

可通过原子层热沉积的方式进行Al2O3、HfO2、ZrO2、HZO等高k材料、阻变材料及原位电极材料的制备。

设备性能指标:

1、样品尺寸:8寸及8寸以下兼容

2、生长精度:0.1nm

3、反应温度:25℃~500℃

4、生长方式:热沉积

5、热源2个,冷源3个。

设备物理位置:

微纳加工中心主超净间104实验室

设备预约方法:

通过清华大学仪器共享服务平台在线预约使用。

工程师联系方式:

曹秉军:62784044-220,caobj@tsinghua.edu.cn

备注

1、样品不能带有金、银、铜。

2、样品上不能有挥发性材料。

3、样品上不能有有机物。

4、样品需清洗干净才可以进入腔体。