设备名称：高真空电子束蒸发系统

设备型号：KJLC PVD75

厂 家：KurtJ.LeskerCompany

设备编号：14030917

设备分类：薄膜

设备功能简介：

电子束蒸发系统，真空度可达到1E-8Torr量级，蒸发速率快,均匀性好，所蒸发的金属薄膜易于剥离，同时能够对蒸发速率和厚度进行实时监测，目前可蒸发材料包括Al，Sc，Sn，Ge等。

设备性能指标：

1.蒸发材料Al，Sc，Sn，Ge等；

2.真空度可达到1E-8Torr量级；

3.可对8英寸及以下硅片进行镀膜；

4.具有基片加热功能，最高可以加热到450℃

设备位置：

微纳加工中心主超净间 自强科技楼5101实验室

设备预约方法：

通过清华大学大型仪器共享服务平台在线预约使用

工程师联系方式：

韩英：18601218109,hanying@mail.tsinghua.edu.cn

窦维治：13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn