设备名称：等离子去胶机（ION wave10）

设备型号：ION wave10

厂 家：PVA TePla

设备编号：21013080

设备分类：刻蚀

设备功能简介：

紧凑型、多功能微波等离子处理系统，采用2.45GHz微波频率激发，产生高密度、低电子温度、低工艺温度的等离子体，有效避免对热敏感材料和器件的损伤。主要功能包括去胶/灰化（温和、彻底去除微电子器件上的光刻胶，对精细图形和脆弱结构友好）、等离子清洗与活化（高效去除有机污染物、改善材料表面能，提升后续键合、涂覆或印刷质量）、表面改性（对材料表面进行功能性处理）；

设备参数：

4英寸及以下晶圆

设备位置：

微纳加工中心主超净间 自强科技楼5101实验室

设备预约方法：

通过清华大学大型仪器共享服务平台在线预约使用

工程师联系方式：

李希有：13641166426,lxyou@mail.tsinghua.edu.cn