设备名称：ICP刻蚀机-F

设备型号：NE-550H(F)

厂 家：爱发科

设备编号：13015108

设备分类：刻蚀

设备功能简介：

用于介质刻蚀。

设备性能指标：

1、操作方式：自动化操作；

2、刻蚀尺寸：4英寸及以下；

3、刻蚀机刻蚀方式：ICP模式；

4、刻蚀精度：0.35微米；

5、均匀性：小于5%；

6、主要刻蚀介质：Si₃N₄、Si、POLY-Si、SiO₂等材料。

设备物理位置：

微纳加工中心主超净间104实验室

设备预约方法：

通过清华大学仪器共享服务平台网上预约。

工程师联系方式：

李希有：13641166426，lxyou@tsinghua.edu.cn