设备名称：等离子去胶机（ION40）

设备型号：ION40

厂 家：PVA TePla

设备编号：20027291

设备分类：刻蚀

设备功能简介：

用于半导体、微电子、MEMS和先进封装领域的多功能等离子处理系统。核心功能是等离子去胶/灰化（使用氧等离子体去除光刻胶），同时应用于等离子清洗、表面活化、改性等工艺。

设备参数：

6英寸及以下晶圆

设备位置：

微纳加工中心主超净间 自强科技楼5101实验室

设备预约方法：

通过清华大学大型仪器共享服务平台在线预约使用

工程师联系方式：

李希有：13641166426,lxyou@mail.tsinghua.edu.cn