设备名称：清洗机

设备型号：SQX-1506 型清洗机

设备编号：20036430

设备分类：清洗，刻蚀

设备功能简介：

清洗机是一种为特定工艺要求而设计的晶片清洗设备，它主要用于半导体电路生产过程中晶片的化学清洗及DI水冲洗工艺。

设备性能指标：

清洗机由五个硫酸槽和五个冲水槽组成，可以硫酸清洗4寸及以下标准完整硅片，每次最多可清洗25片。

设备物理位置：

微纳加工中心主超净间104实验室

设备预约方法：

请在清华大学仪器共享服务平台预约使用。

工程师联系方式：

宗莉：13693600842，zongli@tsinghua.edu.cn