工艺文档
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设备名称:电子束光刻机设备型号:NB5机台写场拼接精度优于10nm,套刻精度优于10nm。单次曝光制备5nm图形结构
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设备名称:扫描探针显微镜系统设备型号:DIMENSION ICON样品:热氧二氧化硅探针:Scanasyst-air测试模式:Scanasyst in air测试范围:500nm粗糙度:Rq 0.263nm样品表面粗…
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设备名称:氦氖镓三束微纳离子显微镜设备型号:Orion NanoFab镓离子束图形刻蚀清华校徽
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设备名称:氦氖镓三束微纳离子显微镜设备型号:Orion NanoFab镓离子束刻蚀微柱
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设备名称:氦氖镓三束微纳离子显微镜设备型号:Orion NanoFab氖离子束诱导沉积钨纳米导线
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设备名称:氦氖镓三束微纳离子显微镜设备型号:Orion NanoFab镓离子束抛光形貌图(结合SEM-EDS完成成分分析
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设备名称:氦氖镓三束微纳离子显微镜设备型号:Orion NanoFab氦离子束诱导沉积Pt纳米柱阵列
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设备名称:氦氖镓三束微纳离子显微镜设备型号:Orion NanoFab氖离子束刻蚀20nm线条形貌