工艺文档
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2022-0817
设备名称：匀胶机、热板、光电所光刻机（汞灯）、光电所光刻机（LED）、佳能光刻机、SUSS MA8光刻机正性双层剥离胶光刻工艺形貌
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2022-0817
设备名称：硅深刻蚀系统设备型号：SPTS Omega LPX Rapier2.5微米线宽 75微米深的硅槽刻蚀形貌
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2022-0817
设备名称：硅深刻蚀系统设备型号：SPTS Omega LPX Rapier直径5微米 50微米深小孔的刻蚀形貌
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2022-0817
设备名称：硅深刻蚀系统设备型号：SPTS Omega LPX Rapier50微米图形尺寸 400微米深快速深硅刻蚀形貌
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2022-0817
设备名称：激光直写系统设备型号：DWL66+灰度曝光表面形貌
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2022-0817
设备名称：激光直写系统设备型号：DWL66+小尺寸图形套刻工艺
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2022-0817
设备名称：化学机械抛光设备生产厂家：strasbaugh样品表面：热氧二氧化硅抛光后粗糙度形貌图（Rq≤1nm
