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用户类别

□ 校内用户    □ 校外用户

申请日期

经费来源

二、样品信息

样品名称

样品数量

______片（不超过5片）

样品规格

□ 8英寸□ 4英寸 □ 其他：_____

样品来源

□ 用户自备  □ 中心裸片

样品材料

特殊要求

样品详细描述（器件功能、已有膜层结构、表面状态、特殊注意事项等），可插入示意图：

三、工艺需求

1. 工艺类型（可多选）：

✓    基础图形化类：□紫外光刻、□电子束光刻、□激光直写制版及光刻

✓    薄膜沉积类：□磁控溅射、□电子束蒸发、□PECVD、□低压CVD、□ALD

✓    干法刻蚀类：□金属刻蚀、□介质刻蚀、□深硅刻蚀、□牺牲层释放

✓    湿法刻蚀类：□湿法刻蚀、□剥离工艺

✓    封装后处理类：□划片、□减薄、□键合

✓    其他工艺：□离子注入、□化学机械抛光、□_________________________________

✓    测试表征：□形貌表征、□结构表征、□能谱表征、□其他

2. 光刻工艺次数：    □ 0次    □ 1次      □ 2次（短流程光刻总次数不超过2次）

3. 工艺流程描述（请按加工顺序详细描述各步工艺要求，可插入示意图、技术资料、流程卡等）：

4. 关键材料及工艺参数要求：

5. 测试表征需求（如需要，请说明测试项目及要求）：

四、技术资料清单

请随本表提交以下技术资料（在对应项前打"√"）：

□ 器件介绍资料

□ 版图文件（GDS、CIF等格式）

□ 工艺规范书/工艺流程卡

□ 测试方案或验收标准

□ 其他：______________________________________________

五、声明与承诺

1. 本人确认所委托的短流程代加工服务符合中心服务范围要求：光刻工艺总次数不超过2次，单批样品数量不超过5片（8英寸及以下），无特殊设备及工艺安全风险，不涉及工艺研发、中试放大及定制化工艺开发。

2. 本人承诺所提供的技术资料合法合规，所委托加工内容不涉及知识产权纠纷，样品及加工成果的相关知识产权归属清晰。

3. 本人理解并同意：如在加工过程中需变更工艺参数或样品数量等需求，将提交书面《需求变更申请》，经双方确认后执行；因设备故障等不可预期因素导致的服务变更，双方将协商解决。

4. 本人同意按照中心各设备收费标准支付机时费，并配合完成合同签订（校外用户）及财务结算流程。

申请人：                                日期

六、签字确认

中心接洽人

日期

代工负责人

日期

中心主任/副主任审批

日期