设备名称：大口径真空气氛管式炉

设备型号：GSL-1100X-III-S-11T-4Z-103G-LVD

厂 家：合肥科晶

设备编号：26000647

设备分类：薄膜

设备功能简介：

大口径真空气氛管式炉可对金属、非金属及其其他化合物进行烧结、融化、分析。

设备性能指标：

1.最大样品尺寸4英寸；

2.最高温度1000℃，推荐升温速率≤10℃/min.；

3.具备N2、Ar气体氛围。

设备位置：

微纳加工中心主超净间 自强科技楼5101实验室

设备预约方法：

通过清华大学大型仪器共享服务平台在线预约使用

工程师联系方式：

曹秉军：13910803625,caobj@mail.tsinghua.edu.cn