设备名称：高真空快速退火炉

设备型号：RTP-200-HV

厂 家：Unitemp GmbH

设备编号：23037847

设备分类：薄膜

设备功能简介：

高真空快速退火炉，可进行离子注入后的损伤修复与激活，形成低电阻硅化物及薄膜的热处理与生长。

设备性能指标：

1.最大样品尺寸8英寸；

2.最高温度1000℃、最高升温速率20℃/sec（SiC）、100℃/sec（石英），最大保温时间 60s 。

设备位置：

微纳加工中心主超净间 自强科技楼5101实验室

设备预约方法：

通过清华大学大型仪器共享服务平台在线预约使用

工程师联系方式：

曹秉军：13910803625,caobj@mail.tsinghua.edu.cn