表征与分析

电子束光刻机

2022-06-01    点击:

设备名称:电子束光刻机

设备型号:NB5

厂 家:NBL

设备编号:16041494

设备分类:光刻,表征与分析

设备功能简介:

扫描电子聚焦束以在被称为抗蚀剂(曝光)的电子敏感膜覆盖的表面上绘制自定义形状的实践。电子束改变了抗蚀剂的溶解性,通过将其浸入溶剂中(显影),可以选择性地除去抗蚀剂的已曝光或未曝光区域。与光刻一样,其目的是在抗蚀剂中形成非常小的结构,然后可以通过蚀刻将其转移到衬底材料上。

设备性能指标:

1、加速电压:20-100kV连续可调;

2、曝光束流:0.2-120nAnA;

3、写场尺寸:100um-1000um边长的正方形区域连续可调;

4、写场拼接精度:优于10nm;

5、套刻精度:优于10nm;

6、最大样品尺寸:直径20cm圆形,厚度小于2mm。

设备物理位置:

微纳加工中心主超净间104实验室

设备预约方法:

在清华大学仪器共享平台进行在线预约使用(用户需经过培训并由主管工程师进行授权)。

工程师联系方式

韩英,hanying@mail.tsinghua.edu.cn