设备名称：光学膜厚测量仪

设备型号：F40-UV

厂 家：Filmetrics

设备编号：A18000072

设备分类：表征与分析

设备功能简介：

光学膜厚仪是通过测量一定波长内光线垂直入射到样品表面时，薄膜表面的反射光来测量薄膜的厚度、粗糙度及光学常数。由于光学测量膜厚方法准确、无破坏，且光谱反射法比椭偏仪操作简单、测试速度快，适合测量具有结构的薄膜。

设备性能指标：

1、测量薄膜厚度范围：4nm～30um（使用10x、15x物镜，样品折射率为1.5左右时，4nm～2um（使用40x物镜）；

2、测试面积：光栏尺寸（250um）/物镜倍率；

3、该设备显微镜物镜：5x、10x、15x、40x。其中5x物镜用于寻找测试区域，10x和15x物镜用于测试薄膜厚度；

4、40x物镜用于测试厚度低于2um的薄膜厚度；

5、测试精度：测试膜层总厚度的0.2%或2nm中的较大者；

6、光源：氘灯、钨灯；

7、测试波长范围：190nm～1100nm；

8、最大测试样品尺寸：8寸。

设备物理位置：

微纳加工中心111实验室

设备预约方法：

通过清华大学仪器共享服务平台在线预约使用。

工程师联系方式：

苏鑫：010-62784044转220，sux@mail.tsinghua.edu.cn