设备名称：FIB聚焦离子束系统

设备型号：Helios 5 UC

厂 家：Thermo Fisher

设备编号：A21000028

设备分类：表征与分析，刻蚀

设备功能简介：

该设备是同时具备聚焦离子束和扫描电子显微镜的双束系统。聚焦离子束通过对离子进行汇聚和扫描，实现对样品表面微纳尺度的加工。扫描电子显微镜通过对电子进行汇聚和扫描，实现对样品表面微纳尺度的观测。聚焦离子束系统既可以用于刻蚀，又可以用于沉积。所刻蚀和沉积的材料可以是绝缘体，也可以是导体。此外，聚焦离子束系统可以实现阵列化无掩膜直写加工功能。

设备性能指标：

1、镓离子束分辨率：30kV时不高于2.5nm；

2、最佳工作距离电子束分辨率：15kV时不高于0.7nm；1kV时不高于1.4nm。

设备物理位置：

微纳加工中心南区108实验室

设备预约方法：

在清华大学仪器共享服务平台进行在线预约使用（用户需经过培训并由主管工程师进行授权）。

主管工程师联系方式：

尹长青：hkycq@mail.tsinghua.edu.cn

原剑：imeyj@mail.tsinghua.edu.cn