设备名称：化学机械抛光设备

设备型号：6EC

厂 家：Strasbaugh

设备编号：17002191

设备分类：化学机械平坦化

设备功能简介：

化学机械抛光设备是综合了机械抛光和化学腐蚀双重作用的平坦化工艺，一种摩擦学、流体力学和化学交叉学科的结合，其质量受到来自芯片本身和磨抛机械等因素影响，如晶片每个芯片本身产生局部力学性质包括硬度、密度和芯片表面的图形密度等。

设备性能指标：

主要用于抛光氧化物和硅等薄膜，以抛光二氧化硅薄膜为例的指标参数如下：

1、衬底材料：100mm和200mm圆硅片

2、抛光材质：二氧化硅

3、抛光速度：≥1500 Angstroms/min

4、平均移除量片内非均匀度（WIWNU）: ≤ 5.0%

5、片间非均匀度（WTWNU）: ≤ 3.0%

6、抛光表面粗糙度：≤ 1nm

设备物理位置：

微纳加工中心主超净间104实验室

设备预约方法：

通过清华大学大型仪器共享服务平台在线预约使用。

工程师联系方式：

尹长青：62784044-213，hkycq@tsinghua.edu.cn