本期培训内容是《电子束光刻及操作技术培训》，主要基于NB5型电子束光刻机进行讲解。

NB5型电子束光刻机可以兼容不大于8英寸晶圆的任意形状样品；加速电压为20-100kV连续可调；加速电压为100kV时，曝光时的束流范围为0.2-120nA，并且在加速电压为100kV，束斑直径为3nm的条件下，能实现2.3nA的束流；稳定复现最小10nm的加工精度。

第一部分，培训视频约24分钟，包括以下4部分内容：

1 电子束光刻机技术介绍

主要介绍电子束光刻的定义、特点、优势以及应用场景。

2 NB5型电子束光刻机介绍

主要介绍NB5型电子束光刻机的主要参数、系统构成和双偏转系统对工艺的改善。

3 电子束抗蚀剂

主要介绍常用的4种抗蚀剂，包括PMMA、UV135、AR-N-7520和HSQ。

4 电子束光刻版图设计

主要介绍版图设计中的基本规则，包括合理分割图形、合理分布图形、调整图形尺寸和3D图形的版图设计。

如需使用该设备可在清华大学大型仪器共享服务平台网页中搜索电子束光刻机（仪器编号：16041494）获取相关信息。