1

电子束光刻机

韩英

二等奖

该设备持续向用户提供2nA的束流制备5nm精度以上的微纳结构，相比使用150pA-200pA束流制备微纳结构的电子束光刻机，具有更高的加工效率。通过对原有工艺的不断细化打磨，中心将原厂分辨率30nm的AR-N-7520型电子束敏感抗蚀剂优化到20nm，优化后的工艺帮助用户完成了Nature等多篇论文的发表。全年使用总机时达5000小时以上。

2

激光直写系统

尹长青

二等奖

该设备满足众多科研院所、校内各院系和科创企业的科研需求，支持20余项国家级重点科研项目，相关研究工作发表了60余篇论文，申请了30余项专利，为校内7项教学试验项目提供技术支持和应用场景。中心与企业合作研发出基于衍射光学器件的3D结构光技术，获得了显著的技术突破和良好的应用效果。全年使用总机时达3000小时以上。

3

EDA服务器

祝月红

二等奖

EDA服务器作为集世界主流EDA软件为一体的大型高性能设备，支撑集成电路一级学科、电子科学与技术、电子信息工程、计算机科学与技术等学科建设，满足清华大学IC设计领域本科生、研究生教学实践和课题组科研需要。设备全年支撑19门本科生、研究生教学课程的开展，为校内外120个重点科研项目提供EDA软件资源和技术支持服务。本年度支撑用户获得国家级、省部级奖项8个，申请和授权专利77项。全年使用总机时达87230人时以上。

4

多腔室物理气相沉积系统

魏治乾

三等奖

多腔室物理气相沉积系统作为微纳加工中心首台投入试用并验收通过的八英寸设备，作为核心机台已经参与完成了多项工艺改进，如改进RRAM关键工艺，将RRAM 器件的成品率由最初的约26%提高至90%，等等。该机台作为核心机台正在进行多个重点研发项目和重大研究计划。全年使用总机时约1650小时。

5

薄膜溅射沉积系统

窦维治

三等奖

该设备广泛应用于集成电路，微电子学、光电子学、磁学、自旋电子学、声子学、光学、光子学、材料学等领域，支撑集成电路学院、材料学院和精仪系多个课题组的前沿科学研究，支撑成果在Nat. Mater.，Nat. Commun., Adv. Mater.和Phys. Rev. Lett.等期刊发表，在相关领域产生了一定国际影响力。全年使用总机时约1500小时。