为确保光刻质量，避免光刻试剂及设备交叉污染，即日起所有用户需遵守以下规定:

1、做电子曝光涂胶工艺的用户在专用电子束涂胶排风橱内的匀胶机、热板等设备上进行操作。

2、做电子束显影工艺的用户在专用电子束显影排风橱内进行操作。

3、做光学曝光(包括接触式曝光、激光直写曝光)涂胶、显影、清洗工艺的用户在另外4个用于光学曝光工艺的排风橱内操作，包括设备使用。

绝对禁止在电子束专用匀胶及显影橱内操作，包括不允许使用该排风橱内的任何设备!

4、在排风橱内用完的废液需回收在本排风橱内的废液桶里，不允许倒在别的排风橱内的废液桶里。

5、专用电子束涂胶、显影排风橱负责人:韩英老师。

其它光学曝光匀胶、显影、清洗排风橱负责人:付玉霞老师、尹长青老师。

6、做光学曝光工艺的用户非必要尽量不要进入电子束涂胶显影区域。

望所有用户遵守以上规定，有问题找相关负责老师解决，并听从光刻负责老师的安排。

违者予以处罚!

微纳加工中心

2022/9/22