设备名称：真空互联-分子束外延系统(半导体）

设备型号：RC2100Se

厂 家：EpiQuest Inc

设备编号：21028773

设备分类：薄膜，真空互联，前沿基础研究服务

设备功能简介：

可以实现半导体和金属材料等很多薄膜材料的外延生长。由于其超高真空度，且生长速率高精度可控，可以获得具有突变界面的高质量的外延层，也可以精确的控制沉积薄膜的厚度、掺杂以及薄膜的组成比例。

设备性能指标：

1、主腔真空：1.5×10^–10 Torr；

2、源炉数量：8个；

3、样品台最高温度：900 °C；

4、RHEED最高电压及电流：30 KV/1.55 A；

5、冷却方式：液氮冷屏；

6、原位束流即时监控系统，束流控制稳定度优于1% 。

设备物理位置：

微纳加工中心南区108实验室

设备预约方法：

1、由项目组负责人填写并提交申请书，实验操作者提交实验申请表。

说明：真空互联设备使用申请书和实验申请表请在清华大学微纳加工中心-表格下载中下载，填写后交给主管工程师。

2、“送样测试”或“委托加工”的，请联系主管工程师。

3、进入实验室实操设备的：

3.1 按实验室开放管理规定，成为实验室用户。

3.2 联系主管工程师，进行设备培训，并通过相关考核。填写完成微纳加工中心设备培训与考核记录单。

3.3 在清华大学大型仪器共享服务平台输入仪器名称，点击“找仪器”进行搜索,找到对应的仪器后进行“上机预约”。

工程师联系方式：

高兆艳：13051135063，zygao@mail.tsinghua.edu.cn