设备名称：真空互联-磁控溅射镀膜机

设备型号：ATC-2200-UHV SPUTTER SYSTEM

厂 家：AJA

设备编号：20004165

设备分类：薄膜，真空互联，前沿基础研究服务

设备功能简介：

制备纳米级单层及多层功能薄膜，主要为多层磁性异质结、磁性隧道结、合金薄膜、半导体和氧化物薄膜等。

设备性能指标：

1、主腔背地真空：9×10^–9Torr；

2、样品台尺寸：4英寸和2英寸，带RF/DC偏压电源；

3、样品不均匀性：优于1.5%；

4、靶座数量及尺寸：8个2英寸，1个3英寸；

5、样品台最高温度：860°C；

6、溅射电源数量及功率：3个750W 直流电源，1个1500W直流电源；2个300W 射频电源。

设备物理位置：

微纳加工中心南区108实验室

设备预约方法：

1、由项目组负责人填写并提交申请书，实验操作者提交实验申请表。

说明：真空互联设备使用申请书和实验申请表请在清华大学微纳加工中心-表格下载中下载，填写后交给主管工程师。

2、“送样测试”或“委托加工”的，请联系主管工程师。

3、进入实验室实操设备的：

3.1 按实验室开放管理规定，成为实验室用户。

3.2 联系主管工程师，进行设备培训，并通过相关考核。填写完成微纳加工中心设备培训与考核记录单。

3.3 在清华大学大型仪器共享服务平台输入仪器名称，点击“找仪器”进行搜索,找到对应的仪器后进行“上机预约”。

工程师联系方式：

高兆艳：13051135063，zygao@mail.tsinghua.edu.cn