微纳加工中心新增光掩膜清洗机（型号：S8801）一台，用于半导体制造过程中光刻版清洗及干燥工艺。该设备可有效清除光刻版在使用过程中表面粘附的残胶、油污、颗粒等污染，大大改善光刻工艺效果。光掩膜版的清洗工艺种类较多，可用于各种光掩膜相关的工艺制程当中，除了对光掩膜成品在流转过程中的脏污进行去除，还可参与光掩膜制造过程中的去胶工艺。
光掩膜清洗机性能指标——CO2-去离子水电离模块：
→ 腔室自清洗功能
→ 三路废液排水模块（酸、水、碱）
→ 三种化学药剂储液罐（硫酸、过氧化氢、氨水）及称重传感器
→ 酸液喷淋系统及端口温度读取功能
→ 硫酸加热功能
→ 加压喷淋系统
→ 超声波清洗系统
→ PFA材质的去离子水加热器
→ NH4OH 电离功能模块
→ SC1配置单元
→ 去离子水背面冲洗
→ 载具种类：4＂+5＂、 5＂+6＂ 、7＂+9＂独立清洗光掩膜载具
